Hikelok R & D 'au fa'apolofesa e tu'uina atu i tagata fa'atau le atoaga o oloa mai le fa'agasologa o faiga i mea faigaluega. O ituaiga uma o oloa e aofia ai le tele o faʻasologa, lea e mafai ona fetaui ma manaʻoga o pisinisi eseese. O oloa Hikelok e aofia ai mai le ultra-high pressure 1000000psi i le vacuum, mai le vateatea i le sami loloto, mai le malosi masani i le malosi fou, mai le alamanuia masani i le ultra-high purity semiconductor applications. O le poto masani o le talosaga sinia e maua ai le tele o fesoʻotaʻiga fesoʻotaʻiga fesoʻotaʻiga mai le faʻagasologa o le faiga i le mea faigaluega ma le tele o ituaiga fesoʻotaʻiga e fetaui ma manaʻoga o fesoʻotaʻiga meafaigaluega i le lalolagi atoa. Ole tele ole laina ole oloa e mafai ona fa'afetaui mana'oga tu'ufa'atasiga eseese. O loʻo i ai i Hikelok ni oloa talafeagai e filifili mai ai, pe o manaʻoga o le avanoa, tulaga faigata o galuega, fesuiaiga o fesoʻotaʻiga faʻaoga, ma tulaga faʻapipiʻi tulaga ese.
Faatasi ai ma le atinaʻeina o sosaiete, o manaʻoga faʻapitoa e faʻateleina ma sili atu ona lauiloa. Ole vaega malosi ole R&D a Hikelok e maua ai mana'oga fa'apitoa mo tagata fa'atau. I le taimi lava e tasi, matou te auai malosi i le R & D o pisinisi fou, faiga fou ma meafaigaluega fou, ma saofagā i le fofo atoa o le vai.