مقدمةيتم استخدام مرشحات خط Hikelok المزدوج في العديد من التطبيقات الصناعية والكيميائية والفضاء والتطبيقات النووية وغيرها. مع تصميم Dual-DISC ، يتم احتجاز جزيئات الملوثات الكبيرة بواسطة عنصر المرشح المنبع قبل أن تتمكن من الوصول إلى العنصر الأصغر بحجم ميكرون بحجم ميكرون. ويوصى بهما مرشحات خط الكأس العالية في أنظمة الضغط العالي التي تتطلب كل من معدلات التدفق العالية ومساحة سطح المرشح القصوى. يستخدم تصميم الكأس على نطاق واسع في حقول المعالجة الصناعية والكيميائية ، ويقدم ما يصل إلى ستة أضعاف مساحة التصفية الفعالة مقارنة بوحدات القرص.
سماتالحد الأقصى لضغط العمل يصل إلى 60،000 PSIG (1379 BAR)درجة حرارة العمل من -100 ℉ إلى 650 ℉ (-73 ℃ إلى 343 ℃)الحجم المتاح 1/4 ، 3/8 ، 9/16 بوصةالمواد: 316 من الفولاذ المقاوم للصدأ: الجسم والأغطية والغدة المكسراتالمرشحات: 316L من الفولاذ المقاوم للصدأمرشح مرشح مزدوج: ميكرون المصب/المنبع 5/10 و 10/35 و 35/65 متاحعناصر مرشح كوب عالي التدفق: كوب مضرب من الفولاذ المقاوم للصدأ.
المزايايمكن استبدال عناصر المرشح بسرعة وسهولةلا يتجاوز تفاضلي الضغط 1000 رطل (69 بار) في حالة تدفقيوصى بمرشحات خط الكأس في أنظمة الضغط المنخفض التي تتطلب كل من معدلات التدفق العالية ومساحة سطح المرشح القصوىيوفر تصميم الكأس ما يصل إلى ستة أضعاف مساحة التصفية الفعالة مقارنة بوحدات من نوع القرص
المزيد من الخياراتاختياري فلاتر خطوط كأس عالية وخط مزدوج